Capa de Pvd de la película fina de la pureza elevada de la blanco de la farfulla de la aleación de PbBi por encargo
Plomo-bismuto
Descripción del objetivo de pulverización catódica de plomo-bismuto
La aleación de plomo y bismuto es conocida por su bajo punto de fusión.Las aleaciones de baja temperatura de fusión suelen contener entre un 20 % y un 25 % de plomo, bismuto y, a veces, otros metales, como estaño, cadmio o indio.Se utilizan ampliamente en la industria óptica para bloquear lentes, sujetar piezas en ingeniería de precisión, crear prototipos, válvulas de seguridad, herramientas de prensa para tiradas limitadas, doblar tubos para perfiles complicados, radioterapia para construir bloques de blindaje y muchas otras aplicaciones.
La aleación de plomo-bismuto tiene un punto de fusión de 124°C, es un material adecuado para refrigerante en reactores nucleares, producción de hidrógeno y objetivos de espalación para la producción de neutrones sin fisión.
Ingrediente de aleación de baja temperatura de fusión
| No | Ccomposición(wt.%） | Temperatura de la zona de fusión/℃ | Puridad | Tips | |||||
|
| Bi | Pb | Sn | Cd | Starta | Fterminar | Punto de flujo de peso propio | (%) | |
| 1 | 50.0 | 26.7 | 13.3 | 10.0 | 70 | 70 | 70 |
| eutéctico |
| 2 | 52.0 | 32.0 | 16.0 | - | 95 | 95 | 95 |
| eutéctico |
| 3 | 54.4 | 43.6 | 1.0 | 1.0 | 104 | 115 | 112 |
| No eutéctico |
| 4 | 55.5 | 44.5 | - | - | - | - | - | 99.995 | |
Embalaje objetivo de pulverización de bismuto con plomo
Nuestro objetivo de pulverización catódica de plomo y bismuto está claramente etiquetado y etiquetado externamente para garantizar una identificación y un control de calidad eficientes.Se tiene mucho cuidado para evitar cualquier daño que pueda causarse durante el almacenamiento o transporte.
Obtener contacto
Los objetivos de pulverización catódica de plomo bismuto de RSM son uniformes y de pureza ultra alta.Están disponibles en varias formas, purezas, tamaños y precios.Nos especializamos en producir materiales de recubrimiento de película delgada de alta pureza con excelente rendimiento, así como la densidad más alta posible y el tamaño de grano promedio más pequeño posible para su uso en recubrimiento de moldes, decoración, piezas de automóviles, vidrio de baja emisividad, circuitos integrados semiconductores, películas delgadas. Resistencia, pantalla gráfica, aeroespacial, grabación magnética, pantalla táctil, batería solar de película delgada y otras aplicaciones de deposición física de vapor (PVD).Envíenos una consulta para conocer los precios actuales de los objetivos de pulverización catódica y otros materiales de deposición que no figuran en la lista.