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Capa de Pvd de la película fina de la pureza elevada de la blanco de la farfulla de TiSi por encargo

Silicio Titanio

Breve descripción:

Categoría

Objetivo de pulverización de aleación

Fórmula química

TiSi

Composición

Silicio Titanio

Pureza

99,7%, 99,9%, 99,95%

Forma

Placas, objetivos de columna, cátodos de arco, hechos a medida

Proceso de producción

Fusión al vacío, PM

Talla disponible

Largo≤2000mm, ancho≤200mm


Detalle del producto

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Descripción del objetivo de pulverización de silicio y titanio

Se podría formar un recubrimiento de nitruro súper duro cuando el titanio silicio se combina con gas nitrógeno durante el proceso de deposición.El elemento Silicio presente garantiza un comportamiento de alta resistencia a la oxidación, mientras que el Titanio – dureza.Podría exhibir una excelente propiedad de resistencia al desgaste incluso a temperaturas muy elevadas.Las herramientas de corte depositadas mediante recubrimiento de TiSiN son ideales para fresado duro y de alta velocidad, especialmente en corte en seco, y pueden trabajar con algunas superaleaciones, como las aleaciones a base de níquel y titanio.

Nuestros objetivos típicos de TiSi y sus propiedades

Ti-15Sien%

Ti-20Sien%

Ti-25Sien%

Ti-30Sien%

Pureza (%)

99,9

99,9

99,9

99,9

Densidad(g/cm2)3

4.4

4.35

4.3

4.25

Glluvia Tamaño(μm)

200/100

100

100

100

Proceso

VAR/CADERA

CADERA

CADERA

CADERA

Nuestra empresa tiene muchos años de experiencia en la fabricación de objetivos de pulverización catódica para herramientas de corte de moldes.Ti-15Si at%, fabricado mediante fusión al vacío, tiene una estructura homogénea, alta pureza y bajo contenido de gas.Además, también suministramos Ti-15Si at%, Ti-20Si at% y Ti-25Si at% producidos mediante metalurgia energética.Nuestros objetivos de TiSi tienen excelentes propiedades mecánicas, lo que los hace insensibles al agrietamiento y fallas estructurales.

Embalaje objetivo de pulverización de silicio y titanio

Nuestro objetivo de pulverización catódica de titanio y silicio está claramente etiquetado y etiquetado externamente para garantizar una identificación y un control de calidad eficientes.Se tiene mucho cuidado para evitar cualquier daño que pueda causarse durante el almacenamiento o transporte.

Obtener contacto

Los objetivos de pulverización catódica de titanio y silicio de RSM son uniformes y de pureza ultra alta.Están disponibles en varias formas, purezas, tamaños y precios.Nos especializamos en producir materiales de recubrimiento de película delgada de alta pureza con excelente rendimiento, así como la densidad más alta posible y el tamaño de grano promedio más pequeño posible para su uso en recubrimiento de moldes, decoración, piezas de automóviles, vidrio de baja emisividad, circuitos integrados semiconductores, películas delgadas. Resistencia, pantalla gráfica, aeroespacial, grabación magnética, pantalla táctil, batería solar de película delgada y otras aplicaciones de deposición física de vapor (PVD).Envíenos una consulta para conocer los precios actuales de los objetivos de pulverización catódica y otros materiales de deposición que no figuran en la lista.

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