Revestimiento de película fina PVD de alta pureza con objetivo de farfulla AlTa por encargo
Aluminio-Tantalio
Los objetivos se preparan mezclando polvos de aluminio y tantalio o fundiéndolos al vacío y luego compactándolos hasta alcanzar su máxima densidad.Los materiales así compactados se sinterizan opcionalmente y luego se les da la forma deseada.
El objetivo de pulverización catódica de tantalio de aluminio tiene alta pureza, microestructura homogénea y excelente conductividad.Se utiliza ampliamente en la formación de películas delgadas para la industria de pantallas planas.También se podría agregar tantalio de aluminio para producir una aleación de titanio de alto rendimiento para mejorar su idoneidad a altas temperaturas.
Contenido de impurezas de la aleación Al-Ta
| composición | Contenido(%） | ||||
| Ta | Fe | Si | C | O | |
| alta60 | 55,0~65,0 | ≤0,05 | ≤0,02 | ≤0,01 | ≤0,05 |
| alta70 | 65,0~75,0 | ≤0,05 | ≤0,02 | ≤0,01 | ≤0,05 |
Rich Special Materials se especializa en la fabricación de objetivos de pulverización catódica y podría producir materiales de pulverización catódica de tantalio y aluminio de acuerdo con las especificaciones de los clientes.Nuestros productos presentan excelentes propiedades mecánicas, estructura homogénea, superficie pulida sin segregaciones, poros ni grietas.Para obtener más información, póngase en contacto con nosotros.
Categorías de productos
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Objetivo de pulverización de aleación AlSiCu de alt...
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Objetivo de pulverización de aleación AlNb de alta pureza F...
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Objetivo de pulverización catódica de aleación AlTi de alta pureza
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AlSnCu objetivo de farfulla película delgada de alt...
