Requisitos característicos del objetivo de pulverización catódica de molibdeno.

Recientemente, muchos amigos preguntaron sobre las características de los objetivos de pulverización catódica de molibdeno.En la industria electrónica, para mejorar la eficiencia de la pulverización catódica y garantizar la calidad de las películas depositadas, ¿cuáles son los requisitos para las características de los objetivos de pulverización catódica de molibdeno?Ahora los expertos técnicos de RSM nos lo explicarán.

　　1. Pureza

La alta pureza es un requisito característico básico del objetivo de pulverización catódica de molibdeno.Cuanto mayor sea la pureza del objetivo de molibdeno, mejor será el rendimiento de la película pulverizada.Generalmente, la pureza del objetivo de pulverización catódica de molibdeno debe ser de al menos 99,95 % (la fracción de masa, la misma a continuación).Sin embargo, con la mejora continua del tamaño del sustrato de vidrio en la industria LCD, es necesario ampliar la longitud del cableado y reducir el ancho de la línea.Para garantizar la uniformidad de la película y la calidad del cableado, también es necesario aumentar correspondientemente la pureza del objetivo de pulverización catódica de molibdeno.Por lo tanto, según el tamaño del sustrato de vidrio pulverizado y el entorno de uso, se requiere que la pureza del objetivo de pulverización catódica de molibdeno sea del 99,99% al 99,999% o incluso superior.

El objetivo de pulverización catódica de molibdeno se utiliza como fuente catódica en la pulverización catódica.Las impurezas en los sólidos y el oxígeno y el vapor de agua en los poros son las principales fuentes de contaminación de las películas depositadas.Además, en la industria electrónica, debido a que los iones de metales alcalinos (Na, K) se convierten fácilmente en iones móviles en la capa de aislamiento, el rendimiento del dispositivo original se reduce;Elementos como el uranio (U) y el titanio (TI) se liberarán en rayos X α, lo que provocará una suave degradación de los dispositivos;Los iones de hierro y níquel provocarán fugas en la interfaz y un aumento de elementos de oxígeno.Por lo tanto, en el proceso de preparación del objetivo de pulverización catódica de molibdeno, estos elementos de impureza deben controlarse estrictamente para minimizar su contenido en el objetivo.

　　2. Tamaño de grano y distribución de tamaño.

Generalmente, el objetivo de la pulverización catódica de molibdeno es una estructura policristalina y el tamaño del grano puede variar desde micras hasta milímetros.Los resultados experimentales muestran que la velocidad de pulverización catódica del objetivo de grano fino es más rápida que la del objetivo de grano grueso;Para el objetivo con una pequeña diferencia de tamaño de grano, la distribución del espesor de la película depositada también es más uniforme.

　　3. Orientación del cristal

Debido a que los átomos objetivo son fáciles de pulverizar preferentemente a lo largo de la dirección de la disposición de átomos más cercana en la dirección hexagonal durante la pulverización, para lograr la velocidad de pulverización más alta, la velocidad de pulverización a menudo se aumenta cambiando la estructura cristalina del objetivo.La dirección del cristal del objetivo también tiene una gran influencia en la uniformidad del espesor de la película pulverizada.Por lo tanto, es muy importante obtener una determinada estructura objetivo orientada a cristales para el proceso de pulverización catódica de la película.

　　4. Densificación

En el proceso de recubrimiento por pulverización, cuando se bombardea el objetivo de pulverización con baja densidad, el gas existente en los poros internos del objetivo se libera repentinamente, lo que resulta en la salpicadura de partículas o partículas del objetivo de gran tamaño, o se bombardea el material de la película. por electrones secundarios después de la formación de la película, lo que resulta en salpicaduras de partículas.La aparición de estas partículas reducirá la calidad de la película.Para reducir los poros en el sólido objetivo y mejorar el rendimiento de la película, generalmente se requiere que el objetivo de pulverización catódica tenga una alta densidad.Para el objetivo de pulverización catódica de molibdeno, su densidad relativa debe ser superior al 98%.

　　5. Unión de objetivo y chasis.

Generalmente, el objetivo de pulverización catódica de molibdeno debe conectarse con el chasis de cobre libre de oxígeno (o aluminio y otros materiales) antes de la pulverización catódica, de modo que la conductividad térmica del objetivo y el chasis sea buena durante el proceso de pulverización catódica.Después de la unión, se debe realizar una inspección ultrasónica para garantizar que el área de no unión de los dos sea inferior al 2%, a fin de cumplir con los requisitos de pulverización catódica de alta potencia sin caerse.