1. Método de pulverización catódica con magnetrón:
La pulverización catódica con magnetrón se puede dividir en pulverización catódica de CC, pulverización catódica de frecuencia media y pulverización catódica de RF.
R. El suministro de energía por pulverización catódica de CC es económico y la densidad de la película depositada es pobre.Generalmente, las baterías fototérmicas y de película delgada domésticas se utilizan con baja energía y el objetivo de la pulverización catódica es un objetivo metálico conductor.
B. La energía de pulverización catódica de RF es alta y el objetivo de pulverización puede ser un objetivo no conductor o un objetivo conductor.
C. El objetivo de pulverización catódica de frecuencia media puede ser un objetivo cerámico o un objetivo metálico.
2. Clasificación y aplicación de objetivos de pulverización catódica.
Hay muchos tipos de objetivos de pulverización catódica y los métodos de clasificación de objetivos también son diferentes.Según su forma, se dividen en dianas largas, dianas cuadradas y dianas redondas;Según la composición, se puede dividir en objetivo metálico, objetivo de aleación y objetivo de compuesto cerámico;Según los diferentes campos de aplicación, se puede dividir en objetivos cerámicos relacionados con semiconductores, objetivos cerámicos de medio de grabación, objetivos cerámicos de visualización, etc. Los objetivos de pulverización catódica se utilizan principalmente en las industrias electrónica y de la información, como la industria del almacenamiento de información.En esta industria, los objetivos de pulverización catódica se utilizan para preparar productos de película delgada relevantes (disco duro, cabezal magnético, disco óptico, etc.).Actualmente.Con el continuo desarrollo de la industria de la información, la demanda de objetivos cerámicos de tamaño medio de grabación en el mercado está aumentando.La investigación y producción de objetivos para soportes de grabación se ha convertido en el centro de una gran atención.
Hora de publicación: 11 de mayo de 2022