El objetivo tiene muchos efectos y el espacio de desarrollo del mercado es grande.Es muy útil en muchos campos.Casi todos los equipos de pulverización catódica nuevos utilizan potentes imanes que colocan en espiral electrones para acelerar la ionización del argón alrededor del objetivo, lo que aumenta la probabilidad de colisión entre el objetivo y los iones de argón.Ahora echemos un vistazo al papel del objetivo de pulverización catódica en el recubrimiento al vacío.
Mejorar la tasa de farfulla.Generalmente, la pulverización catódica de CC se utiliza para el recubrimiento de metales, mientras que la pulverización catódica de CA de RF se utiliza para materiales magnéticos cerámicos no conductores.El principio fundamental es utilizar una descarga luminosa para golpear iones de argón (AR) en la superficie del objetivo en el vacío, y los cationes en el plasma se acelerarán para precipitarse hacia la superficie del electrodo negativo como material salpicado.Este impacto hará que el material del objetivo salga volando y se deposite sobre el sustrato para formar una película.
En términos generales, existen varias características del recubrimiento de película mediante el proceso de pulverización catódica: (1) el metal, la aleación o el aislante se pueden convertir en datos de película.
(2) En condiciones de fraguado adecuadas, la película con la misma composición se puede fabricar a partir de objetivos múltiples y desordenados.
(3) La mezcla o compuesto de material objetivo y moléculas de gas se puede producir añadiendo oxígeno u otros gases activos en la atmósfera de descarga.
(4) Se pueden controlar la corriente de entrada objetivo y el tiempo de pulverización, y es fácil obtener un espesor de película de alta precisión.
(5) En comparación con otros procesos, favorece la producción de películas uniformes de gran superficie.
(6) Las partículas pulverizadas casi no se ven afectadas por la gravedad y las posiciones del objetivo y el sustrato se pueden organizar libremente.
Hora de publicación: 17 de mayo de 2022