El material objetivo utilizado en la industria del almacenamiento de datos requiere una alta pureza y se deben minimizar las impurezas y los poros para evitar la generación de partículas de impureza durante la pulverización catódica.El material objetivo utilizado para productos de alta calidad requiere que el tamaño de sus partículas cristalinas sea pequeño y uniforme, y que no tenga orientación cristalina.A continuación, echemos un vistazo a los requisitos de la industria del almacenamiento óptico para el material de destino.
1. Pureza
En aplicaciones prácticas, la pureza de los materiales objetivo varía según las diferentes industrias y requisitos.Sin embargo, en general, cuanto mayor sea la pureza del material objetivo, mejor será el rendimiento de la película pulverizada.Por ejemplo, en la industria del almacenamiento óptico, se requiere que la pureza del material objetivo sea superior a 3N5 o 4N.
2. Contenido de impurezas
El material objetivo sirve como fuente catódica en la pulverización catódica, y las impurezas en el sólido y el oxígeno y el vapor de agua en los poros son las principales fuentes de contaminación para depositar películas delgadas.Además, existen requisitos especiales para objetivos de diferentes usos.Tomando como ejemplo la industria del almacenamiento óptico, el contenido de impurezas en los objetivos de pulverización catódica debe controlarse a un nivel muy bajo para garantizar la calidad del recubrimiento.
3. Tamaño de grano y distribución de tamaño.
Normalmente, el material objetivo tiene una estructura policristalina, con tamaños de grano que van desde micrómetros hasta milímetros.Para objetivos con la misma composición, la velocidad de pulverización de los objetivos de grano fino es más rápida que la de los objetivos de grano grueso.Para objetivos con diferencias de tamaño de grano más pequeñas, el espesor de la película depositada también será más uniforme.
4. Compacidad
Para reducir la porosidad en el material objetivo sólido y mejorar el rendimiento de la película, generalmente se requiere que el material objetivo de pulverización catódica tenga una alta densidad.La densidad del material objetivo depende principalmente del proceso de preparación.El material objetivo fabricado mediante el método de fusión y fundición puede garantizar que no haya poros dentro del material objetivo y que la densidad sea muy alta.
Hora de publicación: 18-jul-2023