Debido a la alta estabilidad de temperatura, la alta resistencia a la migración de electrones y el alto coeficiente de emisión de electrones del tungsteno refractario y las aleaciones de tungsteno, los objetivos de tungsteno y aleaciones de tungsteno de alta pureza se utilizan principalmente para fabricar electrodos de compuerta, cableado de conexión, capas de barrera de difusión, etc. de semiconductores. circuitos integrados y tienen altos requisitos de pureza, contenido de elementos de impureza, densidad, tamaño de grano y uniformidad de la estructura de grano de los materiales.Ahora echemos un vistazo a los factores que afectan la preparación del objetivo de tungsteno de alta pureza.
1 、 Efecto de la temperatura de sinterización
El proceso de formación del embrión objetivo de tungsteno se realiza generalmente mediante prensado isostático en frío.El grano de tungsteno crecerá durante el proceso de sinterización.El crecimiento del grano de tungsteno llenará el espacio entre los límites del grano, mejorando así la densidad del objetivo de tungsteno.Con el aumento de los tiempos de sinterización, el aumento de la densidad del objetivo de tungsteno se ralentiza gradualmente.La razón principal es que después de múltiples sinterizaciones, la calidad del objetivo de tungsteno no ha cambiado mucho.Debido a que la mayoría de los huecos en el límite del grano están llenos de cristales de tungsteno, después de cada sinterización, la tasa de cambio de tamaño general del objetivo de tungsteno ha sido muy pequeña, lo que resulta en un espacio limitado para que aumente la densidad del objetivo de tungsteno.Con el proceso de sinterización, los granos de tungsteno crecidos se llenan en los huecos, lo que da como resultado una mayor densidad del objetivo con un tamaño de partícula más pequeño.
2 、 Efecto del tiempo de espera
A la misma temperatura de sinterización, la compacidad del objetivo de tungsteno mejorará con la prolongación del tiempo de mantenimiento de la sinterización.Con la prolongación del tiempo de retención, el tamaño del grano de tungsteno aumentará, y con la prolongación del tiempo de retención, los tiempos de crecimiento del tamaño del grano se ralentizarán gradualmente, lo que significa que aumentar el tiempo de retención también puede mejorar el rendimiento del objetivo de tungsteno.
3. Efecto de rodar sobre las propiedades del objetivo.
Para mejorar la densidad del material objetivo de tungsteno y obtener la estructura de procesamiento del material objetivo de tungsteno, el laminado a temperatura media del material objetivo de tungsteno debe realizarse por debajo de la temperatura de recristalización.Si la temperatura de laminación del tocho objetivo es alta, la estructura de fibras del tocho objetivo será basta, y viceversa.Cuando la tasa de laminación en caliente alcanza más del 95%.Aunque se eliminará la diferencia en la estructura de la fibra causada por diferentes granos originales o diferentes temperaturas de laminado, la estructura interna del objetivo formará una estructura de fibra relativamente uniforme, por lo que cuanto mayor sea la velocidad de procesamiento del laminado en caliente, mejor será el rendimiento del objetivo.
Hora de publicación: 15 de febrero de 2023