Acerca de la aplicación y el principio de la tecnología de objetivo de pulverización catódica, algunos clientes han consultado a RSM; ahora, para este problema que les preocupa más, los expertos técnicos comparten algunos conocimientos relacionados específicos.
Aplicación objetivo de farfulla:
Las partículas cargadas (como los iones de argón) bombardean una superficie sólida, lo que hace que las partículas de la superficie, como átomos, moléculas o haces, escapen de la superficie del objeto, un fenómeno llamado "sputtering".En el recubrimiento por pulverización catódica con magnetrón, los iones positivos generados por la ionización de argón generalmente se usan para bombardear el sólido (objetivo) y los átomos neutros pulverizados se depositan sobre el sustrato (pieza de trabajo) para formar una capa de película.El recubrimiento por pulverización catódica con magnetrón tiene dos características: "baja temperatura" y "rápido".
Principio de pulverización catódica con magnetrón:
Se agregan un campo magnético ortogonal y un campo eléctrico entre el polo objetivo pulverizado (cátodo) y el ánodo, y el gas inerte requerido (generalmente gas Ar) se llena en la cámara de alto vacío.El imán permanente forma un campo magnético de 250-350 Gauss en la superficie del material objetivo y forma un campo electromagnético ortogonal con el campo eléctrico de alto voltaje.
Bajo la acción del campo eléctrico, el gas Ar se ioniza en iones y electrones positivos, y hay una cierta alta presión negativa sobre el objetivo, por lo que los electrones emitidos desde el polo objetivo se ven afectados por el campo magnético y la probabilidad de ionización del trabajo. aumenta el gas.Se forma un plasma de alta densidad cerca del cátodo, y los iones de Ar se aceleran hacia la superficie del objetivo bajo la acción de la fuerza de Lorentz y bombardean la superficie del objetivo a alta velocidad, de modo que los átomos pulverizados en el objetivo escapan de la superficie del objetivo con alta velocidad. energía cinética y vuela al sustrato para formar una película de acuerdo con el principio de conversión de momento.
La pulverización catódica con magnetrón generalmente se divide en dos tipos: pulverización catódica de CC y pulverización catódica de RF.El principio del equipo de pulverización catódica de CC es simple y la velocidad es rápida cuando se pulveriza metal.El uso de la pulverización catódica de RF es más amplio, además de la pulverización catódica de materiales conductores, pero también la pulverización catódica de materiales no conductores, pero también la preparación reactiva de óxidos, nitruros y carburos y otros materiales compuestos mediante pulverización catódica.Si la frecuencia de RF aumenta, se convierte en pulverización de plasma de microondas.En la actualidad, se utiliza comúnmente la pulverización catódica de plasma por microondas del tipo resonancia ciclotrón de electrones (ECR).
Hora de publicación: 01-ago-2022