1. Preparación para la farfulla
Es muy importante mantener limpia la cámara de vacío, especialmente el sistema de pulverización.Cualquier residuo formado por aceite lubricante, polvo y recubrimiento previo acumulará vapor de agua y otros contaminantes, lo que afectará directamente el grado de vacío y aumentará la posibilidad de fallas en la formación de película.Los cortocircuitos o la formación de arcos en el objetivo, la superficie rugosa de la película y el contenido excesivo de impurezas químicas a menudo son causados por una cámara de pulverización, una pistola y un objetivo sucios.Para respetar las características de composición del recubrimiento, es necesario limpiar y secar el gas de pulverización (argón u oxígeno).Una vez instalado el sustrato en la cámara de pulverización catódica, es necesario extraer el aire para alcanzar el vacío requerido por el proceso.También es necesario mantener limpia la cubierta protectora en la zona oscura, la pared hueca y la superficie adyacente.Al limpiar la cámara de vacío, recomendamos utilizar granallado con bola de vidrio para tratar las partes polvorientas, junto con aire comprimido para eliminar los primeros residuos de pulverización alrededor de la cámara, y luego pulir silenciosamente la superficie externa con papel de lija impregnado de alúmina.Después de pulir la gasa, se limpia con alcohol, acetona y agua desionizada.En conjunto, aboga por el uso de aspiradores industriales para la limpieza auxiliar.Los objetivos producidos por Gaozhan metal están empaquetados en bolsas de plástico selladas al vacío,
Agente a prueba de humedad incorporado.Cuando utilice el objetivo, no lo toque directamente con la mano.Nota: cuando utilice el objetivo, use guantes de mantenimiento limpios y sin pelusa.Nunca toques el objetivo directamente con las manos.
2. Limpieza de objetivos
El objetivo de la limpieza del objetivo es eliminar el polvo o suciedad que pueda existir en la superficie del objetivo.
El objetivo metálico se puede limpiar en cuatro pasos,
El primer paso es limpiar con un paño suave y sin pelusa empapado en acetona;
El segundo paso es similar al primero, limpiar con alcohol;
Paso 3: limpiar con agua desionizada.Después de lavar con agua desionizada, coloque el objetivo en el horno y séquelo a 100 ℃ durante 30 minutos.
La limpieza de objetivos cerámicos y de óxido se realizará con un “paño sin pelusa”.
El cuarto paso es lavar el objetivo con argón con alta presión y bajo nivel de agua después de eliminar el área polvorienta, para eliminar todas las partículas de impureza que puedan formar un arco en el sistema de pulverización catódica.
3. Dispositivo objetivo
En el proceso de instalación del objetivo, se deben tomar precauciones importantes para garantizar una buena conexión de conducción térmica entre el objetivo y la pared de enfriamiento de la pistola de pulverización catódica.Si la deformación de la duela de enfriamiento es severa o la deformación de la placa posterior es severa, el dispositivo objetivo se agrietará o doblará, y la conductividad térmica desde el objetivo posterior al objetivo se verá muy afectada, lo que resultará en una falla en la disipación de calor. en el proceso de chisporroteo, y el objetivo se agrietará o fallará
Para garantizar la conductividad térmica, se puede colocar una capa de papel de grafito entre la pared de enfriamiento del cátodo y el objetivo.Preste atención para verificar cuidadosamente y dejar en claro la planitud de la pared de enfriamiento de la pistola de pulverización catódica utilizada para garantizar que la junta tórica esté siempre en su lugar.
Dado que la limpieza del agua de refrigeración utilizada y el polvo que puede ocurrir durante el funcionamiento del equipo se depositarán en el tanque de agua de refrigeración del cátodo, es necesario revisar y limpiar el tanque de agua de refrigeración del cátodo al instalar el objetivo para garantizar un funcionamiento suave. circulación del agua de refrigeración y que la entrada y salida no queden bloqueadas.
Se planea que algunos cátodos tengan un pequeño espacio con el ánodo, por lo que al instalar el objetivo, es necesario asegurarse de que no haya contacto o conductor entre el cátodo y el ánodo, de lo contrario se producirá un cortocircuito.
Consulte el manual del operador del equipo para obtener información sobre cómo operar el objetivo correctamente.Si no existe dicha información en el manual del usuario, intente instalar el dispositivo de acuerdo con las sugerencias relevantes proporcionadas por Gaozhan metal.Al apretar el dispositivo objetivo, primero apriete un perno con la mano y luego apriete otro perno en diagonal con la mano.Repita esto hasta que todos los tornillos del dispositivo estén apretados y luego apriételos con algo.
4 、 Inspección de cortocircuito y estanqueidad.
Después de completar el dispositivo objetivo, es necesario verificar el cortocircuito y la estanqueidad de todo el cátodo.
Se propone determinar si existe un cortocircuito en el cátodo mediante el uso de un medidor de resistencia.
Discriminación de filas.Después de confirmar que no hay cortocircuito en el cátodo, se puede realizar la detección de fugas y se puede introducir agua en el cátodo para confirmar si hay fugas de agua.
5. Objetivo previo a la pulverización
La pulverización previa del objetivo aboga por la pulverización catódica de argón puro, que puede limpiar la superficie del objetivo.Cuando el objetivo está pre-pulverizado, se recomienda aumentar lentamente la potencia de pulverización, y la tasa de aumento de potencia del objetivo cerámico es de 1,5 WH/cm2.La velocidad previa a la pulverización catódica del objetivo metálico puede ser mayor que la del bloque objetivo cerámico, y una tasa de aumento de potencia razonable es de 1,5 WH/cm2.
En el proceso de pre-sputtering, debemos verificar el arco del objetivo.El tiempo previo a la pulverización catódica es generalmente de unos 10 minutos.Si no hay ningún fenómeno de formación de arcos, aumente continuamente la potencia de pulverización.
A la potencia establecida.Según la experiencia, el alto poder de pulverización Z aceptable del objetivo metálico es
25 vatios/cm2, 10 vatios/cm2 para objetivo cerámico.Consulte la base de configuración y la experiencia de la presión de la cámara de vacío durante la pulverización catódica en el manual de operación del sistema del usuario.Generalmente, se debe garantizar que la temperatura del agua a la salida del agua de refrigeración sea inferior a 35 ℃, pero es importante garantizar que el sistema de circulación del agua de refrigeración pueda funcionar de forma eficaz.
La rápida circulación del agua superenfriada elimina el calor, lo que es una garantía importante para garantizar una pulverización continua con alta potencia.Para objetivos metálicos, generalmente se recomienda que el flujo de agua de refrigeración sea
La presión del agua de 20 lpm es de aproximadamente 5 gmp;Para objetivos cerámicos, generalmente se recomienda que el flujo de agua sea de 30 lpm y la presión del agua sea de aproximadamente 9 gmp.
6. Mantenimiento de objetivos
Para evitar cortocircuitos y arcos causados por una cavidad sucia en el proceso de pulverización, es necesario eliminar la pulverización acumulada en el centro y ambos lados de la pista de pulverización en etapas.
Esto también ayuda a los usuarios a chisporrotear continuamente con una alta densidad de potencia.
7. Almacenamiento de objetivos
Los objetivos proporcionados por Gaozhan metal están empaquetados en bolsas de plástico al vacío de doble capa.Recomendamos que los usuarios mantengan los objetivos, ya sean metálicos o cerámicos, en envases al vacío.En particular, los objetivos de unión deben almacenarse en condiciones de vacío para evitar que la oxidación de la capa de unión afecte la calidad de la unión.En cuanto al embalaje de los objetivos metálicos, defendemos que Z se envase en bolsas de plástico limpias.
Hora de publicación: 13 de mayo de 2022