El recubrimiento al vacío en la selección de materiales objetivo de pulverización catódica ha sido un problema para las personas en la actualidad, ya que el recubrimiento por pulverización catódica, especialmente el desarrollo de las habilidades de recubrimiento por pulverización catódica con magnetrón, se puede decir que cualquier información puede apuntar a la preparación de materiales de películas delgadas. mediante bombardeo iónico, porque la pulverización catódica del material objetivo en el proceso de recubrimiento del tipo de sustrato tiene un efecto importante en la calidad de la película de pulverización catódica. Por lo tanto, los requisitos del material objetivo son más estrictos.Aquí aprenderemos sobre el papel del objetivo de pulverización catódica en el recubrimiento al vacío junto con el editor de Beijing Relaxation.
一 、 Principio de selección y clasificación del material objetivo.
En la selección del material de destino, además del uso de la película en sí, también se deben considerar los siguientes problemas:
Problema 1. De acuerdo con los requisitos de uso y rendimiento de la membrana, es necesario que el material objetivo cumpla con los requisitos técnicos de pureza, contenido del cargador, uniformidad de los componentes, precisión de mecanizado, etc.
Problema 2. El material objetivo debe tener buena resistencia mecánica y estabilidad química después de la formación de la película;
Problema 3. Es necesario que el material de la película genere una película compuesta fácilmente con el gas de reacción como película de pulverización catódica reactiva;
Problema 4. Es necesario configurar el objetivo y la matriz para que sean fuertes; de lo contrario, se debe adoptar un material de película con buena adhesión a la matriz, primero pulverizar una capa de película inferior y luego preparar la capa de película requerida;
Pregunta 5. Bajo la premisa de cumplir con los requisitos de rendimiento de la película, cuanto menor sea la diferencia entre el coeficiente de expansión térmica del objetivo y la matriz, mejor, para reducir la influencia de la tensión térmica de la película de pulverización catódica;
Preparación de varios objetivos de uso común.
(1) objetivo cr
El cromo como material de película de pulverización catódica no solo es fácil de combinar con el material base y tiene una alta adherencia, y la película de cromo y óxido CrQ3, sus propiedades mecánicas, resistencia a los ácidos y estabilidad térmica son mejores.
Beijing Ruichi High-tech Co., Ltd. se dedica principalmente a: objetivo de titanio, objetivo de circonio, objetivo de aluminio, objetivo de níquel, objetivo de cromo, objetivo de tungsteno, objetivo de molibdeno, objetivo de cobre, objetivo de silicio, objetivo de niobio, objetivo de tantalio, aleación de titanio y silicio. objetivo, objetivo de aleación de titanio-niobio, objetivo de aleación de titanio-tungsteno, objetivo de aleación de titanio-circonio, objetivo de aleación de níquel-cromo, objetivo de aleación de sílice-aluminio, objetivo de aleación de níquel-vanadio, objetivo de aleación ternaria de cromo-aluminio-silicio, Ti al si Material objetivo de aleación ternaria, ampliamente utilizado en decoración/superficies duras y revestimientos funcionales, vidrio arquitectónico, pantalla plana/fotoeléctrico óptico, almacenamiento óptico, electrónica, impresión y otras profesiones.
Hora de publicación: 02-jun-2022