Todos sabemos que existen muchas especificaciones para los objetivos de pulverización catódica,que tiene awamplio rango de aplicación.TLas variedades objetivo comúnmente utilizadas en diferentes industrias también son diferentes, hoy veamos con Beijingricomat juntos para aprender sobre la clasificación de la industria objetivo de pulverización catódica.
一、Definición de material objetivo de pulverización catódica
La pulverización catódica es una de las principales tecnologías para preparar materiales de película delgada.Utiliza los iones generados por la fuente de iones para formar un haz de iones con energía de alta velocidad mediante agregación acelerada en el vacío. La superficie sólida bombardeada, los iones y los átomos de la superficie sólida tienen intercambio de energía cinética, de modo que los átomos en la superficie sólida abandonan el sólido y se depositan en En la superficie del sustrato, el sólido bombardeado es la materia prima para preparar la película depositada por pulverización catódica, conocida como objetivo de pulverización catódica.
二、Clasificación del campo de aplicación de materiales objetivo de pulverización catódica.
1、Objetivo semiconductor
(1)Material de uso común:Los objetivos comunes en este campo incluyen tantalio, cobre, titanio, aluminio, oro, níquel y otros metales de alto punto de fusión.
(2)Uso:Utilice básicamente los datos originales cruciales del circuito integrado.
(3)Requerimientos funcionales:Los requisitos técnicos en cuanto a pureza, tamaño e integración son elevados.
2 、Material objetivo para visualización plana
(1)Material de uso común:Los objetivos comúnmente utilizados en este campo incluyen aluminio/cobre/molibdeno/níquel/niobio/silicio/cromo, etc.
(2)Uso:Este tipo de material de destino se utiliza principalmente en varios tipos de películas de gran superficie para televisores y portátiles.。
(3)Requerimientos funcionales:Altos requisitos de pureza, gran superficie, uniformidad, etc.
3、Objetivos para células solares
(1)Material de uso común:Los objetivos de aluminio/cobre/molibdeno/cromo/ITO/Ta se utilizan comúnmente en células solares.
(2)Uso:Se utiliza principalmente en “capa de ventana”, capa de barrera, electrodo y película conductora y otras ocasiones.。
(3)Requerimientos funcionales:Alto requisito de habilidad, amplia gama de uso.
4、Material de destino para el almacenamiento de información.
(1)Material de uso común:Almacenamiento de información materiales objetivo de cobalto/níquel/ferroaleaciones/cromo/telurio/selenio de uso común.
(2)Uso:El material de destino aquí se utiliza principalmente para la cabecera, la capa intermedia y la capa inferior del CD-ROM y CD..
(3) Requisitos funcionales:Se requieren alta densidad de almacenamiento y alta velocidad de transmisión.
5、Material objetivo para la modificación de herramientas.
(1)Material de uso común:Modificación de herramientas de titanio/zirconio/celosía/aleación de cromo-aluminio y otros objetivos.
(2)Uso:Generalmente se utiliza para mejorar la apariencia..
(3)Requerimientos funcionales:Altos requisitos funcionales, larga vida útil.
6、Materiales de destino para dispositivos electrónicos.
(1)Material de uso común:Los objetivos de aleación de aluminio/siliciuro se utilizan comúnmente en dispositivos electrónicos.
(2)Uso:Generalmente utilizado para resistencias de película y condensadores..
(3)Requerimientos funcionales:Tamaño pequeño, estabilidad, coeficiente de temperatura de baja resistencia.
Hora de publicación: 21-abr-2022