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Capa de Pvd de la película fina de la pureza elevada de la blanco de la farfulla de NiCrAlY por encargo

Níquel Cromo Aluminio Itrio

Breve descripción:

Categoría

Objetivo de pulverización de aleación

Fórmula química

nicraly

Composición

Níquel Cromo Aluminio Itrio

Pureza

99,5%, 99,7%, 99,9%, 99,95%

Forma

Placas, objetivos de columna, cátodos de arco, hechos a medida

Proceso de producción

Fusión al vacío

Talla disponible

Largo≤200mm, ancho≤200mm


Detalle del producto

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Descripción del objetivo de farfulla de itrio, aluminio, cromo y níquel

El objetivo de pulverización catódica NiCrAlY se produce mediante fusión al vacío de materias primas de níquel cromo aluminio itrio.Tiene alta consistencia y tamaño de grano fino y sin poros.Su composición de cromo varía entre 10 y 30 % (en peso), aluminio entre 10 y 20 % (en peso), itrio entre 0,5 y 1,0 % (en peso) y resulta en una estructura bicapa de γ+β.
La capa de NiCrAlY se utiliza a menudo como revestimiento de barrera térmica.La corrosión a alta temperatura se refiere a un ataque químico de aleaciones a base de hierro, níquel y cobalto que forman cromia a partir de gases, sales sólidas o fundidas, o metales fundidos, generalmente a temperaturas superiores a 400 °C (750 °F).La aplicación de la capa de NiCrAlY utilizada en la aleación escalonada de alta temperatura de aviones y turbinas de gas podría mejorar el rendimiento de resistencia a la corrosión y extender la vida útil del producto.

Empaquetado del objetivo de farfulla del itrio del aluminio del cromo del níquel

Nuestro Níquel Cromo Aluminio Itrioobjetivo de chisporroteoestá claramente etiquetado y etiquetado externamente para garantizar una identificación y un control de calidad eficientes.Se tiene mucho cuidado para evitar cualquier daño que pueda causarse durante el almacenamiento o transporte.

 

Obtener contacto

Los objetivos de pulverización catódica de níquel, cromo, aluminio y itrio de RSM son uniformes y de pureza ultra alta.Están disponibles en varias formas, purezas, tamaños y precios.Nos especializamos en producir materiales de recubrimiento de película delgada de alta pureza con excelente rendimiento, así como la densidad más alta posible y el tamaño de grano promedio más pequeño posible para su uso en recubrimiento de moldes, decoración, piezas de automóviles, vidrio de baja emisividad, circuitos integrados semiconductores, películas delgadas. Resistencia, pantalla gráfica, aeroespacial, grabación magnética, pantalla táctil, batería solar de película delgada y otras aplicaciones de deposición física de vapor (PVD).Envíenos una consulta para conocer los precios actuales de los objetivos de pulverización catódica y otros materiales de deposición que no figuran en la lista.

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