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Capa de Pvd de la película fina de la pureza elevada de la blanco de la farfulla de NiTa por encargo

Níquel Tantalio

Breve descripción:

Categoría

Objetivo de pulverización de aleación

Fórmula química

nita

Composición

tantalio de níquel

Pureza

99,9%, 99,95%, 99,99%

Forma

Placas, objetivos de columna, cátodos de arco, hechos a medida

Proceso de producción

Fusión al vacío, PM

Talla disponible

Largo≤200mm, Ancho≤200mm


Detalle del producto

Etiquetas de productos

Los objetivos de pulverización catódica de níquel y tantalio se fabrican mediante fusión al vacío o proceso pulvimetalúrgico.Tiene alta pureza y microestructura homogénea.

Los objetivos de pulverización catódica de níquel y tantalio se utilizan ampliamente en las industrias aeroespacial, aeronáutica y de navegación.Su buena resistencia a la reactividad superficial a altas temperaturas se deriva de la considerable cantidad de tantalio presente en la aleación, que tiene una alta temperatura de fusión de 3000°C.Se suele añadir aluminio, itrio y cromo para mejorar las propiedades.

Rich Special Materials se especializa en la fabricación de objetivos de pulverización catódica y podría producir materiales de pulverización catódica de níquel y tantalio de acuerdo con las especificaciones de los clientes.Para obtener más información, póngase en contacto con nosotros.


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