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Revestimiento de PVD de película fina de alta pureza con objetivo de pulverización de Ti hecho a medida

Titanio

Breve descripción:

Categoría

Objetivo de pulverización de metal

Fórmula química

Ti

Composición

Titanio

Pureza

99,9%, 99,95%, 99,99%

Forma

Placas, objetivos de columna, cátodos de arco, hechos a medida

Proceso de producción

Fusión al vacío

Talla disponible

Largo≤2000mm, ancho≤200mm


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Descripción del objetivo de pulverización catódica de titanio

El titanio es un elemento químico con el símbolo Ti y número atómico 22. Es un metal de transición brillante con un color plateado.Su punto de fusión es (1660±10)℃, su punto de ebullición es 3287℃.Tiene peso ligero, alta dureza y resistencia a la corrosión de todo tipo de químicos clorados.

El titanio resiste la corrosión del agua de mar y puede disolverse tanto en medios ácidos como alcalinos.

La aleación de titanio se utiliza ampliamente en la industria aeroespacial, la ingeniería química, el petróleo, la medicina, la construcción y otros campos por sus excelentes propiedades, como baja densidad, conductividad térmica y excelente resistencia a la corrosión, soldabilidad y biocompatibilidad.

El titanio puede absorber gases de hidrógeno, CH4 y Co2, y se utiliza ampliamente en sistemas de alto y ultra alto vacío.El objetivo de pulverización catódica de titanio podría usarse para la fabricación de redes de circuitos LSI, VLSI y ULSI, o materiales metálicos de barrera.

Embalaje de objetivo de pulverización catódica de titanio

Nuestro objetivo de pulverización catódica de titanio está claramente etiquetado y etiquetado externamente para garantizar una identificación y un control de calidad eficientes.Se tiene mucho cuidado para evitar cualquier daño que pueda causarse durante el almacenamiento o transporte.

Obtener contacto

Los objetivos de pulverización catódica de titanio de RSM son uniformes y de pureza ultra alta.Están disponibles en varias formas, purezas, tamaños y precios.Nos especializamos en producir materiales de recubrimiento de película delgada de alta pureza con excelente rendimiento, así como la densidad más alta posible y el tamaño de grano promedio más pequeño posible para su uso en recubrimiento de moldes, decoración, piezas de automóviles, vidrio de baja emisividad, circuitos integrados semiconductores, películas delgadas. Resistencia, pantalla gráfica, aeroespacial, grabación magnética, pantalla táctil, batería solar de película delgada y otras aplicaciones de deposición física de vapor (PVD).Envíenos una consulta para conocer los precios actuales de los objetivos de pulverización catódica y otros materiales de deposición que no figuran en la lista.

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