Capa fina de la película PVD de la pureza elevada de la blanco de la farfulla de la aleación de ZrSi por encargo

Objetivo de pulverización de aleación ZrSi, revestimiento de película fina de alta pureza PVD hecho a medida,
Objetivo de pulverización catódica de circonio y silicio,
El objetivo de pulverización catódica de circonio y silicio se fabrica mediante fusión al vacío y metalurgia energética.

El circonio presente podría mejorar el comportamiento de dureza y resistencia a la corrosión.

El silicio de circonio tiene como objetivo una conductividad eléctrica baja y podría reducir la tensión residual, lo que mejoraría la estabilidad de los recubrimientos y prolongaría la vida útil.Los recubrimientos podrían usarse en vidrio Low-E por su alta consistencia y comportamiento de resistencia a la corrosión.

En comparación con el silicio puro, los objetivos de pulverización catódica de silicio y circonio de alta pureza podrían mejorar significativamente la resistencia a la fricción del recubrimiento depositado entre 4 y 6 veces.

Por tanto, Zr-Si está disponible para muchas aplicaciones prácticas.

Rich Special Materials es un fabricante de objetivos de pulverización catódica y podría producir materiales de pulverización catódica de silicio y circonio de acuerdo con las especificaciones de los clientes.Para obtener más información, contáctenos. El objetivo de pulverización catódica de silicio y circonio se fabrica mediante fusión al vacío y metalurgia energética.
El circonio presente podría mejorar el comportamiento de dureza y resistencia a la corrosión.
El silicio de circonio tiene como objetivo una conductividad eléctrica baja y podría reducir la tensión residual, lo que mejoraría la estabilidad de los recubrimientos y prolongaría la vida útil.Los recubrimientos podrían usarse en vidrio Low-E por su alta consistencia y comportamiento de resistencia a la corrosión.
En comparación con el silicio puro, los objetivos de pulverización catódica de silicio y circonio de alta pureza podrían mejorar significativamente la resistencia a la fricción del recubrimiento depositado entre 4 y 6 veces.
Aplicación del objetivo de pulverización catódica ZrSi
El objetivo de pulverización catódica de ZrSi se utiliza en muchas aplicaciones de vacío, como revestimientos de vidrio para automóviles, fabricación de células fotovoltaicas, fabricación de baterías, pilas de combustible y revestimientos decorativos y resistentes a la corrosión.El objetivo de pulverización catódica ZrSi se utiliza para CD-ROM, decoración por deposición de películas delgadas, pantallas planas, recubrimientos funcionales, así como para otras industrias de almacenamiento de información óptica, etc.
Embalaje de objetivo de farfulla ZrSi
Nuestro objetivo de pulverización catódica ZrSi está claramente etiquetado y etiquetado externamente para garantizar una identificación y un control de calidad eficientes.Se tiene mucho cuidado para evitar cualquier daño que pueda causarse durante el almacenamiento o transporte.

Obtener contacto
Los objetivos de pulverización catódica de circonio y silicio de RSM son uniformes y de pureza ultra alta.Están disponibles en varias formas, purezas, tamaños y precios.Nos especializamos en producir materiales de recubrimiento de película delgada de alta pureza con excelente rendimiento, así como la densidad más alta posible y el tamaño de grano promedio más pequeño posible para su uso en recubrimiento de moldes, decoración, piezas de automóviles, vidrio de baja emisividad, circuitos integrados semiconductores, películas delgadas. Resistencia, pantalla gráfica, aeroespacial, grabación magnética, pantalla táctil, batería solar de película delgada y otras aplicaciones de deposición física de vapor (PVD).Envíenos una consulta para conocer los precios actuales de los objetivos de pulverización catódica y otros materiales de deposición que no figuran en la lista.