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Precio razonable para el objetivo de farfulla de aleación de CuNi, níquel y cobre 4n de pureza del 99,99% para PVD

Tantalio y niobio

Breve descripción:

Categoría

Objetivo de pulverización de aleación

Fórmula química

TaNb

Composición

Tantalio y niobio

Pureza

99,9%, 99,95%, 99,99%

Forma

Placas, objetivos de columna, cátodos de arco, hechos a medida

Proceso de producción

Fusión al vacío

Talla disponible

Largo≤2000mm, ancho≤200mm


Detalle del producto

Etiquetas de productos

Como resultado de nuestra especialidad y conciencia de servicio, nuestra empresa ha ganado un estatus excelente entre compradores de todo el mundo por un precio razonable para un objetivo de pulverización catódica de aleación de CuNi de níquel y cobre 4n de pureza del 99,99% para PVD. Nuestra corporación se dedica a proporcionar perspectivas con grandes y soluciones excelentes y constantes a precios de venta competitivos, haciendo que cada cliente esté satisfecho con nuestros servicios.
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Descripción del objetivo de pulverización de tantalio y niobio

El objetivo de pulverización catódica de tantalio y niobio se fabrica mediante la fusión al vacío de tantalio y niobio.Estos dos son metales raros de alto punto de fusión (tantalio 2996 ℃, niobio 2468 ℃), alto punto de ebullición (tantalio 5427 ℃, niobio 5127 ℃).La aleación de tantalio y niobio tiene una apariencia similar al acero, tiene un brillo gris plateado (mientras que el polvo es gris oscuro).Tiene muchas propiedades favorables: resistencia a la corrosión, superconductividad y resistencia a altas temperaturas.Por lo tanto, cualquier aplicación o industria podría beneficiarse del uso de aleaciones de tantalio y niobio, como la electrónica, el vidrio y la óptica, la industria aeroespacial, los dispositivos médicos, la superconductividad y el acero.

El tantalio y el niobio han sido cruciales en la industria espacial durante años debido a su impresionante fuerza, resistencia a la corrosión y otras características atractivas, y se han utilizado en muchos componentes importantes como motores de cohetes y boquillas.

Embalaje objetivo de pulverización de tantalio y niobio

Nuestro objetivo de pulverización catódica TaNb está claramente etiquetado y etiquetado externamente para garantizar una identificación y un control de calidad eficientes.Se tiene mucho cuidado para evitar cualquier daño que pueda causarse durante el almacenamiento o transporte.

Obtener contacto

Los objetivos de pulverización catódica de tantalio y niobio de RSM son uniformes y de pureza ultra alta.Están disponibles en varias formas, purezas, tamaños y precios.Nos especializamos en producir materiales de recubrimiento de película delgada de alta pureza con excelente rendimiento, así como la densidad más alta posible y el tamaño de grano promedio más pequeño posible para su uso en recubrimiento de moldes, decoración, piezas de automóviles, vidrio de baja emisividad, circuitos integrados semiconductores, películas delgadas. Resistencia, pantalla gráfica, aeroespacial, grabación magnética, pantalla táctil, batería solar de película delgada y otras aplicaciones de deposición física de vapor (PVD).Envíenos una consulta para conocer los precios actuales de los objetivos de pulverización catódica y otros materiales de deposición que no figuran en la lista.

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