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  • Diferencias entre la tecnología de pulverización catódica y el objetivo de pulverización catódica y sus aplicaciones

    Diferencias entre la tecnología de pulverización catódica y el objetivo de pulverización catódica y sus aplicaciones

    Todos sabemos que la pulverización catódica es una de las principales tecnologías para preparar materiales cinematográficos.Utiliza los iones producidos por la fuente de iones para acelerar la agregación en el vacío para formar un haz de iones de alta velocidad, bombardear la superficie sólida y los iones intercambian energía cinética con los átomos del suelo...
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  • Tecnología de fabricación de objetivos de aleación de cromo y aluminio.

    Tecnología de fabricación de objetivos de aleación de cromo y aluminio.

    El objetivo de aleación de cromo y aluminio, como su nombre indica, es un objetivo hecho de aleación de cromo y aluminio.Muchos amigos sienten mucha curiosidad por saber cómo se fabrica este objetivo.Ahora, los expertos técnicos de RSM presentarán el método de producción del objetivo de aleación de cromo y aluminio.La producción...
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  • Campos de aplicación de objetivos de pulverización catódica

    Campos de aplicación de objetivos de pulverización catódica

    Como todos sabemos, existen muchas especificaciones para los objetivos de pulverización catódica y sus campos de aplicación también son muy amplios.Los tipos de objetivos comúnmente utilizados en diferentes campos también son diferentes.Hoy, aprendamos sobre la clasificación de los campos de aplicación objetivo de pulverización catódica con el e...
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  • ¿Qué es el objetivo de polisilicio?

    ¿Qué es el objetivo de polisilicio?

    El polisilicio es un importante material objetivo de pulverización catódica.El uso del método de pulverización catódica con magnetrón para preparar SiO2 y otras películas delgadas puede hacer que el material de la matriz tenga una mejor resistencia óptica, dieléctrica y a la corrosión, que se usa ampliamente en industrias de pantallas táctiles, ópticas y otras.El pr...
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  • Tipos comunes de objetivos metálicos.

    Tipos comunes de objetivos metálicos.

    Como todos sabemos, el material objetivo es el material objetivo de partículas cargadas a alta velocidad.Existen muchas analogías de materiales objetivo, como metales, aleaciones, óxidos, etc.Las industrias utilizadas también son diferentes y se utilizan ampliamente.Entonces, ¿cuáles son los objetivos metálicos comunes?Cuánto ...
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  • Tipos comunes de objetivos cerámicos.

    Tipos comunes de objetivos cerámicos.

    Con el desarrollo de la industria de la información electrónica, los materiales de alta tecnología se transfieren gradualmente de láminas a películas delgadas y los dispositivos de recubrimiento se desarrollan rápidamente.El material objetivo es un material electrónico especial con alto valor agregado y es la fuente de materiales de película delgada para pulverización catódica....
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  • Ventajas y desventajas de la tecnología de recubrimiento por pulverización catódica.

    Ventajas y desventajas de la tecnología de recubrimiento por pulverización catódica.

    Recientemente, muchos usuarios han preguntado sobre las ventajas y desventajas de la tecnología de recubrimiento por pulverización catódica. De acuerdo con los requisitos de nuestros clientes, ahora los expertos del Departamento de Tecnología de RSM compartirán con nosotros con la esperanza de resolver los problemas.Probablemente existan los siguientes puntos: 1...
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  • Diferencias entre recubrimiento por evaporación y recubrimiento por pulverización catódica

    Diferencias entre recubrimiento por evaporación y recubrimiento por pulverización catódica

    Como todos sabemos, la evaporación al vacío y la pulverización iónica se utilizan comúnmente en el recubrimiento al vacío.¿Cuál es la diferencia entre el recubrimiento por evaporación y el recubrimiento por pulverización catódica?A continuación, los expertos técnicos de RSM compartirán con nosotros.El recubrimiento por evaporación al vacío consiste en calentar el material que se va a evaporar...
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  • Requisitos característicos del objetivo de pulverización catódica de molibdeno.

    Requisitos característicos del objetivo de pulverización catódica de molibdeno.

    Recientemente, muchos amigos preguntaron sobre las características de los objetivos de pulverización catódica de molibdeno.En la industria electrónica, para mejorar la eficiencia de la pulverización catódica y garantizar la calidad de las películas depositadas, ¿cuáles son los requisitos para las características de los objetivos de pulverización catódica de molibdeno?Ahora...
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  • Campo de aplicación del material objetivo de pulverización catódica de molibdeno.

    Campo de aplicación del material objetivo de pulverización catódica de molibdeno.

    El molibdeno es un elemento metálico, utilizado principalmente en la industria del hierro y el acero, la mayor parte del cual se usa directamente en la fabricación de acero o hierro fundido después de prensar el óxido de molibdeno industrial, y una pequeña parte se funde en ferromolibdeno y luego se usa en acero. haciendo.Puede mejorar la alo...
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  • Conocimiento de mantenimiento del objetivo de pulverización catódica.

    Conocimiento de mantenimiento del objetivo de pulverización catódica.

    Muchos amigos tienen más o menos preguntas sobre el mantenimiento del objetivo, recientemente también hay muchos clientes que consultan sobre problemas relacionados con el mantenimiento del objetivo, permítanos compartir con el editor de RSM sobre el conocimiento sobre el mantenimiento del objetivo.¿Cómo debería chisporrotear...?
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  • Principio del revestimiento al vacío.

    Principio del revestimiento al vacío.

    El recubrimiento al vacío se refiere a calentar y evaporar la fuente de evaporación al vacío o pulverizar con bombardeo iónico acelerado y depositarlo en la superficie del sustrato para formar una película de una o varias capas.¿Cuál es el principio del revestimiento al vacío?A continuación, el editor de RSM hará...
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